特許庁は、「特許制度の在り方について」報告書、「意匠制度の在り方について」報告書、及び「商標制度の在り方について」報告書を公表した。これらは、2月15日に開催された産業構造審議会第7回知的財産政策部会で取りまとめられたものである。

各報告書は、日本の産業の国際競争力強化のための知的財産権の適切な保護などの目的で、知的財産政策部会のもとで、特許制度、意匠制度、商標制度の各小委員会が検討を重ね、まとめたものである。

報告書に盛り込まれた、各制度改正の具体的方向としては、特許制度に関しては、特許査定後・拒絶査定後の分割可能化、先使用権制度の見直し、意匠制度に関しては、権利期間の15年から20年への延長、意匠法の保護対象の拡大、商標制度に関しては、小売業等の商標のサービスマークとしての保護、著名商標の保護の見直しなど、がある。

また、どの権利にも共通した制度改正としては、権利侵害行為への「輸出」の追加や、「譲渡等を目的とした所持」の追加がある。

今後は、これらの報告書の内容にしたがって、法改正の準備がすすむものと思われる。詳細については、下記のURLを参照されたい。

URL:

http://www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/torikumi/puresu/press_ishou_kouhyou.htm

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