6月1日、権利保護、模倣品対策の強化を主眼とした、意匠法等の一部を改正する法律案が第164回通常国会で可決されました。いよいよ、2007年の施行を目指すことになります。

可決については、http://www.shugiin.go.jp/itdb_gian.nsf/html/gian/keika/1DA013A.htmを参照ください。

今回の改正のポイントは、

(1)意匠法

【手続面】

存続期間の延長

関連意匠出願の出願条件の緩和

3条の2 (先願意匠の一部と同一又は類似の意匠の保護除外)の規定の緩和

秘密意匠制度の利用条件の緩和

新規性喪失の例外の利用条件の緩和

【実体面】

意匠の類似判断の判断基準を「需要者の視覚を通じて起こさせる美観」であることを明確にする。

情報家電等の操作画面デザイン保護を拡大する。

(2)商標法

【実体面】

小売業・卸売業に係る商標を、役務商標として認める

団体商標の主体的要件の緩和

(3)特許法

【手続面】

出願分割の条件の緩和

補正の条件の制限

外国語書面出願の翻訳文提出期限の緩和

(4)その他

産業財産権四法について、侵害行為に輸出行為を追加する。

特許権・実用新案権・意匠権の侵害行為に譲渡等目的の所持行為を追加する。

特許権・意匠権・商標権の侵害罪、不正競争防止法における営業秘密侵害罪の罰則規定の強化

詳細は、当ホームページの3月9日のTOPICSで紹介しております。

http://soei.com/%e6%84%8f%e5%8c%a0%e6%b3%95%e7%ad%89%e3%81%ae%e4%b8%80%e9%83%a8%e3%82%92%e6%94%b9%e6%ad%a3%e3%81%99%e3%82%8b%e6%b3%95%e5%be%8b%e6%a1%88%e3%81%8c%e9%96%a3%e8%ad%b0%e6%b1%ba%e5%ae%9a/

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