特許行政年次報告書2010年版が先日特許庁により公表されました。

特許行政年次報告書は、産業財産権をめぐる政策の現状と方向性、国内外の動向と分析及び統計情報等を毎年取りまとめているものです。今回の2010年版では、「産業財産権の現状と課題」と銘打って、ここ数年の日本特許庁及び海外特許庁における産業財産権の動向が多種多様なデータにより検証されています。

特許行政年次報告書2010年版では、例えば、2009年度の日本特許庁における特許出願の出願・審査に関して以下の事柄が報告されています。

  • 国内特許出願の出願件数は減少したものの、PCT出願の出願件数は増加していること。
  • 審査請求期間の改正(2001年に7年から3年に改正)に伴い増加していた審査順番待ち件数が減少傾向にあること。
  • 一次審査件数が審査請求件数を上回ったこと。

特許行政年次報告書2010年版では、特許に限らず意匠や商標の動向についても多種多様なデータにより検証されています。

また、特許行政年次報告書2010年版は非常にボリュームのある報告書となっていますが、要旨がコンパクトにまとめられた別紙「産業財産権の現状と課題のポイント」が特許行政年次報告書2010年版と共に公表されています。

なお、特許行政年次報告書2010年版の詳細につきましては、下記ホームページを参照下さい。

特許庁ホームページ:http://www.meti.go.jp/press/20100715002/20100715002.html

以上

※この記事は一般的な情報、執筆者個人の見解等の提供を目的とするものであり、創英国際特許法律事務所としての法的アドバイス又は公式見解ではありません。