米国特許法改正案が上院本会議で3 月8日に可決されたのに続き、下院でも議論が始まった。

下院で議論される改正案(H.R. 1249)は上院で可決されたもの(S. 23)を基本的に踏襲しているものの、相違点もある。上院案と下院案との主な相違点としては、

(1)付与後異議申立制度の詳細(申立期間:9ヶ月より長い12ヶ月、訴訟手続きの停止、より広い申立の理由、など)、

(2)先使用権の適用範囲の拡大、などが挙げられる。

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