韓国特許庁は、2011 年1/4分期の知的財産権関連の統計を発表した。

同発表によると、前年同期に比べて、特許出願は2.2% 増加、実用新案登録出願は18.6% 減少、意匠登録出願は7.4% 減少、商標登録出願は1.9% 増加している。実用新案と意匠において出願件数が大幅に減少していることが目立っている。しかし、内国民による出願と、外国からの出願を比べると以下の通りであり、外国からの出願は逆に増えていることが分かる。

  内国民による出願(増減率)   外国からの出願(増減率)
特許   +0.8%   +6.2%
実用新案   - 19.2%   +1.0%
意匠   -8.8%   +15.7%
商標   +1.0%   +11.2%

 

 

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