日米欧中韓の五大特許庁は、2016年6月2日に東京で第9回長官会合を開催し、下記の3項目を今後の目指すべき方向性とする五庁共同声明2016(東京声明)に合意した。

  • ユーザーとの関係強化
  • 高品質で信頼性の高い審査結果の提供
  • 発展する新技術への知財庁としての対応
    → IoTやAI等の新技術に対応するための各庁の協力

また、下記の各プロジェクトの成果についても合意等がなされた。

(1)特許出願・審査関連情報(ドシエ情報)の提供
(2)五庁によるPCT国際出願の協働調査の試行
(3)特許審査ハイウェイ(PPH)
(4)特許制度調和

(1)では、ワン・ポータル・ドシエ/グローバル・ドシエ及びWIPO-CASEによる審査関連情報の提供だけでなく、書類のXML化、アラート機能、出願人名称の統一等の更なるサービス向上に関する実施内容についても合意された。

なお、特許情報プラットフォーム(J-PlatPat)でのワン・ポータル・ドシエ機能は、2016年7月25日にリリースされている。

また、(4)では、先行技術の開示義務に関して、「ITシステムを最大限活用しユーザーの負担を軽減する方向性」で合意がなされており、米国特許出願におけるIDS(情報開示陳述書)の負担軽減に繋がる取組が期待される。

【出典】
経済産業省「五庁共同声明2016(東京声明)に合意しました
Five IP offices「Meeting with IP5 Industry, June 2016, Tokyo, Japan

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