日本特许厅发表2007年版特许行政年度报告
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日本特许厅近日发表2007年版特许行政年度报告，对与知识产权相关的国内外动向作总结，并对各种情报作以统计。
在国内申请方面，特别之出了发明专利及外观设计专利申请件数的减少，及在发明专利复审（不服审判）中申请不成立的比例增加。而在国外申请方面，申请件数持续增加，特别是有重视对中国申请的倾向。
在知识产权战略方面，特别指出了要促进在先技术检索，及世界申请率（向本国提出申请的发明中，也向外国提出申请的发明的比例）的降低的问题。
而且，本年度报告在数据统计中首次公布了各个企业的授权件数。在“多利用专利制度企业的申请，审查相关情报”中，公开了２００４～２００６年的数据。
详细请查看日本特许厅网页。http://www.jpo.go.jp/shiryou/index.htm