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   <title>創英国際特許法律事務所</title>
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   <updated>2010-09-01T08:23:06Z</updated>
   <subtitle>弁理士（特許事務所）と弁護士（法律事務所）が協力して、特許・意匠・商標・法務の各専門家がトップレベルの知財サービスを提供します。</subtitle>
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   <title>紙の再利用</title>
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   <published>2010-09-01T08:23:04Z</published>
   <updated>2010-09-01T08:23:06Z</updated>
   
   <summary>特許明細書を書く際には、事務用紙を大量に消費します。オフィス内で紙をリサイクルできる技術は無いのかと思い、特許調査をしてみました。</summary>
   <author>
      <name>投稿者</name>
      <uri>http://www.soei.com/</uri>
   </author>
         <category term="001_創英の主張" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   <category term="483" label="筆者：松尾　茂樹" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#tag" />
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<p>
&nbsp; iPadが登場し、電子書籍という言葉をよく耳にするようになりました。紙の媒体はますます削減されてゆきそうですが、私自身は紙を大量に消費しています。紙に印刷し、ペンを片手に精読しなければ、明細書や意見書等の誤字・脱字を見落としてしまうからです。閲覧側の電子化は急速に進むかもしれませんが、文書の作成過程の電子化にはもう少し時間がかかるように思われます。<br />
　毎日大量の印刷物を廃棄しながら、ふと同じ紙をオフィス内で何度も使いまわせるシステムが欲しいと思いました。具体的には、オフィスにプリンターと消去機（仮称）が設置されていて、使い終わった紙を消去機にかければ白紙になって出てくるというシステムです。同じ紙を１０回～２０回使いまわせば、紙の消費はすさまじく減ります。<br />
　早速特許調査をしたところ、ざっと検索しただけで338件をピックアップすることができました。内訳は、媒体（紙）関連が45%、インク・トナー関連が13%、装置関連が40%でした。消去機関連は、かなり考えられている分野のようです。<br />
　特許出願がなされているだけではなく、消去機、専用トナー、専用ペンなどは製品化されていました。しかし、私は消去機が実際に使われているところを見たことがありません。消去機はそれほど普及していなさそうですが、いったい何が普及の妨げになっているのでしょうか。紙に代わる媒体の登場が迫っているということなのでしょうか。<br />
　いずれにせよ、近い将来に何らかの技術革新はあるのだと思います。電子媒体での閲覧が主役となる時代が来れば、紙媒体ほど誤字・脱字が目立たず、今ほど神経を使わなくてよくなるのかもしれません。とはいうものの、特許明細書はいわば権利書です。何媒体の時代であっても求められる精度は変わらないはずです。やはり、紙に代わる媒体は、紙と同じ精度で文書の校正ができる機能を備えているべきだと思います。紙の将来はどうなって行くのか、興味は尽きません。次回は電子ペーパーについて調べてみたいと思います。
</p>
<p>
以上
</p>
]]>
      
   </content>
</entry>
<entry>
   <title>商標弁理士/商標パラリーガル</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/job/yoko/000371.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2006:/jp//1.371</id>
   
   <published>2010-08-31T07:35:56Z</published>
   <updated>2010-08-31T07:39:24Z</updated>
   
   <summary>今回の商標パラリーガル採用は募集を終了いたしました。多数のご応募、ありがとうございました。</summary>
   <author>
      <name>システム</name>
      
   </author>
         <category term="350_募集要項" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<h3 class="entry-title">商標弁理士</h3>
<p>
<span style="color: #ff0000"><strong>現在募集しておりません。</strong></span><!--
<h4>商標実務を希望する弁理士を募集中！</h4>
<p>
<br>
･･･商標の大規模な業務拡大（特に外国商標案件、外内商標案件）につき、商標弁理士を大募集しています。
</p>
<table cellspacing="1" cellpadding="3">
	<tbody>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" valign="top">募集内容</td>
			<td>資格：弁理士、弁理士未登録の弁理士試験合格者&nbsp;</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" valign="top">
			<p>
			応募要項
			</p>
			</td>
			<td>年齢：商標実務経験者は、３５歳くらいまで 商標実務未経験者は、３０歳くらいまで<br>
			資格：弁理士、弁理士未登録の弁理士試験合格者<br>
			語学：業務に支障がない程度の英語力要(ＴＯＥＩＣ 730以上を目安)。</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" valign="top">応募方法</td>
			<td>履歴書<u>（E-mailアドレスを明記）</u><br>
			自己ＰＲ文(書式、分量自由)</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" valign="top">業務内容<br>
			および待遇</td>
			<td>業務内容：国内外の商標案件<br>
			待遇：実力及び経験等を考慮して優遇 。<br>
			教育：<a href="/jp/job/stepup/"><u>ステップアップ</u></a>を参照下さい。<br>
			その他、条件等の詳細については、下記に問合せ下さい（応募の秘密は厳守）<br>
			Ｅメール：73%61%69%79%6F%75%40%73%6F%65%69%2D%70%61%74%65%6E%74%2E%63%6F%2E%6A%70</td>
		</tr>
	</tbody>
</table>
-->
</p>
<p>
&nbsp;
</p>
<h3 class="entry-title">商標パラリーガル</h3>
<p>
<strong>今回の商標パラリーガル採用は募集を終了いたしました。多数のご応募、ありがとうございました。</strong>&nbsp;
</p>
<h4>連絡先</h4>
<p>
〒100-0005 東京都千代田区丸の内二丁目1番1号<br />
丸の内 MY PLAZA（明治安田生命ビル） 9階<br />
創英国際特許法律事務所<br />
E-mail:<a href="mailto:%73%61%69%79%6F%75%40%73%6F%65%69%2D%70%61%74%65%6E%74%2E%63%6F%2E%6A%70"><u>採用担当　総合企画室</u></a>
</p>
<h4><a href="https://www.soei.com/jp/form_trademark.php">■応募フォーム</a></h4>
<p>
こちらの応募フォームからエントリーも出来ます。<br />
必要事項をご入力の上、送信してください。
</p>
]]>
      
   </content>
</entry>
<entry>
   <title>特許電子図書館（ＩＰＤＬ）の「意匠公知資料テキスト検索」は使えるのか！？</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/ipinfo/iptopics/003/001748.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2010:/jp//1.1748</id>
   
   <published>2010-08-27T05:37:04Z</published>
   <updated>2010-08-27T05:47:39Z</updated>
   
   <summary>特許電子図書館（ＩＰＤＬ）の「意匠公知資料テキスト検索」は使えるのか！？</summary>
   <author>
      <name>投稿者</name>
      <uri>http://www.soei.com/</uri>
   </author>
         <category term="---_What’sNew" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
         <category term="003_知的財産・法務関係" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   <category term="117" label="筆者：野間　悠" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#tag" />
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<p>
特許電子図書館（ＩＰＤＬ、<a href="http://www.ipdl.inpit.go.jp/homepg.ipdl">http://www.ipdl.inpit.go.jp/homepg.ipdl</a>）の意匠のページを見ると、「意匠公知資料テキスト検索」というページがあります（<a href="http://www.ipdl.inpit.go.jp/Isyou/dpsj_top.ipdl?N0000=3700">http://www.ipdl.inpit.go.jp/Isyou/dpsj_top.ipdl?N0000=3700</a>）。<br />
このページは、公知になった意匠の資料や外国の意匠公報資料を、物品名や意匠分類から検索できるページです。
</p>
<p>
以前から、書誌事項は掲載されていても、著作権の許諾の関係で図面や写真が掲載されていなかったこのページですが、毎年、特許庁が図面等の公開許諾の伺いを行っているようなので、今回、出願人や特許事務所にとって利用に耐えうるものになっているのか、改めて調べてみました。
</p>
<p>
検索条件は、<br />
　（現行）意匠分類・Ｄターム　：　F4731<br />
　公知日／発行日／受入日　　　：　2008年01月01日～2008年06月30日
</p>
<p>
※意匠分類は、いわゆるペットボトルの分野です。<br />
最近、京都オフィスのブログでもその記事を書いたので、この分野で調べてみました。<br />
（京都オフィスのブログ<a href="http://soei-kyoto.blogspot.com/">http://soei-kyoto.blogspot.com/</a>）
</p>
<p>
<img style="width: 444px; height: 341px" src="http://www.soei.com/jp/images/topics//noma09.jpg" alt="noma09.jpg" width="569" height="414" />
</p>
<p>
※特許電子図書館「意匠公知資料テキスト検索」のページより引用<br />
<a href="http://www.ipdl.inpit.go.jp/Isyou/dpsj_top.ipdl?N0000=3700">http://www.ipdl.inpit.go.jp/Isyou/dpsj_top.ipdl?N0000=3700</a>
</p>
<p>
<br />
図面が掲載されていたのは全体の１割程度といったところでした。ただし、掲載もとのＵＲＬが併せて記載されているので、そこまでたどって行くと、図面を閲覧することができる場合もありました。<br />
いずれにせよ、大部分の資料において図面や写真等が掲載されていない現状では、依然として出願人や特許事務所が本格的に先行公知意匠の調査に使用することは難しいでしょう。
</p>
<p>
ただし、以下のような場合には利用価値は十分にあると思います。<br />
１．公開許諾がなされている範囲でもよいから先行意匠調査の手段として利用する。<br />
２．自らが意匠を公開した日付を証明する手段として利用する。
</p>
<p>
２については、デザイン寄託のようなものでしょうか。現在の運用では、特許庁（の委託先）から公開許諾についての伺いが来て、それに応える形で許諾を出すという流れのようなのでうまく利用できない場合もあるかと思いますが、他の方法で証明することが困難な場合には、オプションの一つとして考慮に入れておくというのも手かと思います。<br />
<br />
以上
</p>
]]>
      
   </content>
</entry>
<entry>
   <title>私たちは･･･知財の匠集団「創英」･･･です</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/ourfirm/message/000414.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2006:/jp//1.414</id>
   
   <published>2010-08-24T08:12:32Z</published>
   <updated>2010-08-24T08:17:11Z</updated>
   
   <summary><![CDATA[私たちは･･･知財の匠集団「創英」･･･です &nbsp; 所長　長谷川芳樹 　...]]></summary>
   <author>
      <name>システム</name>
      
   </author>
         <category term="120_所長の挨拶" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<h3 class="entry-title" align="left">私たちは･･･知財の匠集団「創英」･･･です</h3>
<div class="r">
<img src="http://www.soei.com/english/images/people/hasegawa.jpg" alt="hasegawa.jpg" width="95" height="95" />
&nbsp;<br />
<span style="font-size: 12px">所長　長谷川芳樹</span>
</div>
<p class="rl">
<br />
　２１世紀は「知的創造サイクル」を回す時代、知財創造立国の時代です。<br />
　新しいものを創造し、それを知的財産権として保護し、これを活用して社会に役立てる時代です。
</p>
<p class="rl">
　このためには、二つの「環境」が必要です。
</p>
<p class="rl">
　第１は、発明やデザイン、ブランドなどの知的財産が尊重され、それを生み出す人たちの能力が十分に発揮できる環境です。<br />
　そのためには、発明やデザイン、ブランドなどの知的財産が、その価値に応じた広さと強さを持った知的財産権として、過不足なく保護されなければなりません。
</p>
<p class="rl">
　第２は、過度に知的財産権を振りかざすような権利の濫用は、これを許さないとする社会的な環境です。<br />
　知的財産権に対する侵害は許さないとする一方で、経済活動の自由を阻害する知的財産権の濫用も許さない、というバランスにより、知財創造立国は実現されていきます。
</p>
<p class="rl">
　知財創造立国の主人公は、研究・開発者やデザイナー、ブランドの開拓者たちです。<br />
　しかし、脇役がいなければ知財創造立国は成しえず、主役と脇役を含めた様々な人たちの協働により知的創造サイクルは回っていきます。
</p>
<p class="rl">
　私たち創英は、知財創造立国の実現に不可欠な脇役として、<br />
（１）多彩な専門家の有機的連携<br />
（２）最先端情報技術の高度利用<br />
（３）知財創造立国を支える人材の育成<br />
（４）知財支援のグローバル展開<br />
の４つを大切にし、これからも進化と発展を続けてまいります。
</p>
<p class="rl" align="right">
２００８年４月１日
</p>
<p class="rl" align="left">
&nbsp;<a href="/jp/ourfirm/new_office/msg.php">
<img src="http://www.soei.com/jp/images/titles/iten.gif" alt="移転のご挨拶" width="150" height="30" align="absMiddle" />
</a>&nbsp;２０１０年８月
</p>
]]>
      
   </content>
</entry>
<entry>
   <title>東京オフィス</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/ourfirm/offices/000366.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2006:/jp//1.366</id>
   
   <published>2010-08-24T08:01:04Z</published>
   <updated>2010-08-24T08:02:33Z</updated>
   
   <summary> 〒100-0005　 東京都千代田区丸の内二丁目1番1号　 丸の内 MY PL...</summary>
   <author>
      <name>システム</name>
      
   </author>
         <category term="140_所在地・支店" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<p>
<img src="http://www.soei.com/jp/images/new_office.jpg" alt="東京オフィス" width="520" height="427" />
</p>
<p>
〒100-0005　<br />
東京都千代田区丸の内二丁目1番1号　<br />
丸の内 MY PLAZA（明治安田生命ビル） 9階<br />
TEL 03-6738-8001 (代)　FAX 03-6738-8004 (代)　
</p>
●最寄駅からのご案内●<br />
<table width="450" class="design" align="left">
	<tbody>
		<tr>
			<td class="cap" valign="top">JR東京駅（新幹線・JR各線）</td>
			<td>丸の内南口から徒歩5分</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" valign="top">JR有楽町駅（山手・京浜東北線）</td>
			<td>国際フォーラム口から徒歩5分</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" valign="top">東京メトロ二重橋前駅（千代田線）</td>
			<td>3番出口から直結</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" valign="top">都営地下鉄日比谷駅（三田線）</td>
			<td>B7番出口から徒歩2分</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" valign="top">東京メトロ東京駅（丸の内線）</td>
			<td>4b番出口から徒歩5分</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" valign="top">東京メトロ有楽町駅（有楽町線）</td>
			<td>D1番出口から徒歩5分</td>
		</tr>
	</tbody>
</table>
]]>
      
   </content>
</entry>
<entry>
   <title>「ダブルトラック」の在り方について（第２８回特許制度小委員会）</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/ipinfo/iptopics/003/001747.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2010:/jp//1.1747</id>
   
   <published>2010-08-19T09:11:05Z</published>
   <updated>2010-08-19T09:11:06Z</updated>
   
   <summary>産業構造審議会知的財産政策部会特許制度小委員会の、第２８回特許制度小委員会の「議事録」が特許庁ＨＰにて公表されました。議題は、
　1．特許の有効性判断についての「ダブルトラック」の在り方について、及び、
　2．侵害訴訟の判決確定後の無効審判等による再審の取扱いについて、です。
上記議題のうち、「ダブルトラック」についてご紹介します。</summary>
   <author>
      <name>投稿者</name>
      <uri>http://www.soei.com/</uri>
   </author>
         <category term="003_知的財産・法務関係" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   <category term="473" label="筆者：福山　尚志" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#tag" />
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<p>
特許の有効性については、従来、侵害訴訟を審理する裁判所が侵害訴訟の手続の中で審理判断をすることはできず、特許庁での無効審判の手続によらなければならないとされていました。
</p>
<p>
しかしながら、特許の有効性に関する判断として、２０００年４月の&ldquo;キルビー最高裁判決&rdquo;では、侵害裁判所は特許に無効理由が存在することが明らかであるか否かについて判断することができ、無効理由が存在することが明らかであるときは、当該特許権に基づく請求は特段の事情がない限り権利の濫用に当たり許されないと解すべき旨が判示されました。
</p>
<p>
また、２００５年４月に特許法第１０４条の３が施行され、侵害裁判所は、無効理由の存在が「明らか」である場合に限らず、特許の有効性について判断することが可能とされ、侵害訴訟において、当該特許が「特許無効審判により無効にされるべきものと認められるとき」は、当該訴訟におけるその特許権の行使は許されないこととされました。
</p>
<p>
このような経緯により、現在、特許の有効性に関する判断が、「無効審判ルート」と「侵害訴訟ルート」の二つのルートで行われ得るという、いわゆる「ダブルトラック」という状況が生じています。つまり、同一の特許の有効性について、特許無効審判と侵害訴訟との間で判断齟齬が生じる場合があるということです。
</p>
<p>
このような現状が、法的安定性や特許権者の手続負担等の観点から、果たして望ましいと言えるのか・・・。そして、問題があるとすれば、それをどのように解決するのが望ましいと言えるのか・・・。第28回特許制度小委員会では、「ダブルトラック」の今後の在り方について、出席委員が議論を交わしています。
</p>
<p>
「ダブルトラック」の最新の論点に興味がございましたら、下記リンク先をご参照下さい。
</p>
<p>
特許庁ＨＰ内　産業構造審議会知的財産政策部会特許制度小委員会<br />
「第28回 (平成22年6月11日)」<br />
<a href="http://www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/shiryou/toushin/shingikai/tokkyo_seido_menu.htm">http://www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/shiryou/toushin/shingikai/tokkyo_seido_menu.htm</a>
</p>
]]>
      
   </content>
</entry>
<entry>
   <title>国内初の知財ファンド設立</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/ipinfo/iptopics/003/001744.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2010:/jp//1.1744</id>
   
   <published>2010-08-17T08:58:20Z</published>
   <updated>2010-08-24T08:06:59Z</updated>
   
   <summary>８月６日、官民出資の投資ファンドである株式会社産業革新機構（ＩＮＣＪ）は、大学等に眠るライフサイエンス系の特許を買い取り、事業化を促すことを目的として、我が国初の知財ファンドである「ＬＳＩＰ(Life-Science Intellectual property Platform Fund、エルシップ)」を設立すると発表しました。</summary>
   <author>
      <name>投稿者</name>
      <uri>http://www.soei.com/</uri>
   </author>
         <category term="003_知的財産・法務関係" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   <category term="474" label="筆者：安藤　祐子" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#tag" />
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[　大学の特許活用は、これまで各大学に設置されたTLOや大学の知財本部が中心となって取り組まれてきましたが、1.特許を活用しようとする企業側は、ある程度まとまった知財群のライセンスを希望しているにもかかわらず、各大学がバラバラに特許を取得している、2.大学の特許は研究目的で取得されているために、特許をバックアップするデータが不十分で、周辺特許が抑えられていない、という問題点がありました。大学だけではなく、公的研究機関も同様の問題を抱えており、また、企業にも眠っている特許があります。<br />
ＬＳＩＰでは、こうした問題点を解決するために、大学や公的研究機関、企業等から特許を集約し、不足しているデータの収集のための補足研究の実施や周辺特許の取得を行って、企業側が特許を活用しやすいようパッケージ化したうえで、ライセンスやベンチャーの創出につなげていきます。<br />
　今回対象とされるライフサイエンス系の特許は、バイオマーカー、ＥＳ/幹細胞、がん、アルツハイマーの４分野の特許です。ＬＳＩＰの運営は、製薬企業等の知財戦略の第一線で活躍してきた専門家を中心メンバーとする知財ネットワーク株式会社が担います。<br />
ＩＮＣＪでは、今後、ライフサイエンス以外の分野、燃料電池や太陽光発電等の分野でも知財ファンドを設立する検討を進めており、今回のライフサイエンス分野での成功が期待されます。<br />
詳細は、<br />
<a href="http://www.incj.co.jp/investment/info.html#info9">http://www.incj.co.jp/investment/info.html#info9</a><br />
<a href="http://www.ipsn.co.jp/100806LSIP.pdf">http://www.ipsn.co.jp/100806LSIP.pdf</a><br />
をご覧下さい。 
]]>
      
   </content>
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<entry>
   <title>私たち「創英」の沿革</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/ourfirm/history/000413.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2006:/jp//1.413</id>
   
   <published>2010-08-16T08:43:39Z</published>
   <updated>2010-08-16T08:44:27Z</updated>
   
   <summary> 	 		 			1986.　2 			前身の連名事務所を開業(港区愛宕) 		...</summary>
   <author>
      <name>システム</name>
      
   </author>
         <category term="130_沿革とあらまし" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<table cellspacing="1" cellpadding="3" width="100%" class="design">
	<tbody>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" style="width: 120px">1986.　2</td>
			<td align="left">前身の連名事務所を開業(港区愛宕)</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" style="width: 120px">1987.　7</td>
			<td align="left">連名事務所の分離独立と業務拡大のため移転(千代田区岩本町)</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" style="width: 120px">1988.　1</td>
			<td align="left">創英国際特許事務所設立</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" style="width: 120px">1989.　7</td>
			<td align="left">移転 (千代田区東神田)</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" style="width: 120px">1991.　5</td>
			<td align="left">分室を設置</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" style="width: 120px">1992.11</td>
			<td align="left">移転(中央区銀座一丁目)</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" style="width: 120px">1994.　5</td>
			<td align="left">移転(中央区京橋)</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" style="width: 120px">1996.　4</td>
			<td align="left">意匠･商標部門を開設</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" style="width: 120px">1999.　4</td>
			<td align="left">法務部門を開設、創英国際特許法律事務所に改称</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" style="width: 120px">1999.　8</td>
			<td align="left">移転（中央区銀座二丁目）</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" style="width: 120px">2001.　1</td>
			<td align="left">創英知的財産研究所を設立</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" style="width: 120px">2001.　2</td>
			<td align="left">分室を設置</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center" style="width: 120px">2003.　2</td>
			<td align="left">分室を統合し、銀座一丁目(銀座ファーストビル)に移転</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center">2006.　2</td>
			<td>創業２０周年</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center">2007.　7</td>
			<td>第２オフィス（中央区銀座一丁目） 開設</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center">2008.　8</td>
			<td>京都オフィス　開設</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center">2008.11</td>
			<td>本部オフィス(銀座ファーストビル)を増床し、第２オフィスと統合</td>
		</tr>
		<tr>
			<td class="cap" align="center">2010.　8</td>
			<td>本部オフィスを丸の内(丸の内MY PLAZA)に移転(１フロアに統合)</td>
		</tr>
	</tbody>
</table>
]]>
      
   </content>
</entry>
<entry>
   <title>世界の特許出願の動向雑感</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/ipinfo/iptopics/003/001742.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2010:/jp//1.1742</id>
   
   <published>2010-08-05T09:48:58Z</published>
   <updated>2010-08-24T08:08:36Z</updated>
   
   <summary> ７月１５日に特許庁から出願件数等の統計資料が発表されました。</summary>
   <author>
      <name>投稿者</name>
      <uri>http://www.soei.com/</uri>
   </author>
         <category term="003_知的財産・法務関係" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   <category term="371" label="筆者：吉田　信彦" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#tag" />
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<p>
&nbsp;　特許庁から発表された各国の特許出願件数を、人口及びＧＤＰ（2009年IMＦ発表）で割り、人口1000人当たりの特許出願件数、GDP10億ドル当たりの特許出願件数を算出してみました。
</p>
<p>
表：人口1000人当たりの特許出願件数、GDP10億ドル当たりの特許出願件数
</p>
<p>
<img style="width: 504px; height: 241px" src="/jp/images/topics//20100809.jpg" alt="20100809.jpg" width="504" height="241" />
</p>
<p>
（欧州は、2009年度欧州特許庁出願件数＋2007年度のＥＵ加盟国の出願件数の合計です）<br />
<br />
「人口1000人当たりの特許出願件数」は、人口に対する特許出願件数の割合を示します。また、「10億ドル当たりの特許出願件数」は、経済規模に対してどれだけ特許が出願されているかを示します。<br />
日本、韓国は、人口当たり、ＧＤＰ当たりの特許出願件数が比較的多く、直近では量から質への調整局面に入る観があるものの、特許出願に積極的に取り組んでいる姿勢が数字の上から伺えます。<br />
欧州は、対象的に、人口当たり、ＧＤＰ当たりの特許出願件数が少なく、今後の動向に期待されます。<br />
米国は、人口当たり、ＧＤＰ当たりの特許出願件数が、日本、韓国に及ばず、どちらかといえばバランス型です。しかしながら、出願件数は、世界最大であり、技術力、経済力の強さを感じます。
</p>
<p>
　中国は、ＧＤＰ当たりの出願件数を見ると日本と同水準ですが、人口当たりの特許出願件数が日本の十分の一程度です。今後、経済の発展に伴い、技術開発の従事者が増えることにより優れた技術が開発され特許出願件数は上昇すると思います。五大特許庁の特許出願件数の合計が前年比2.6％減である中、中国の特許出願件数が前年比8.5％増であることからも、中国の成長性の高さが伺えます。<br />
　
</p>
]]>
      
   </content>
</entry>
<entry>
   <title>子ども見学デー開催</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/ipinfo/iptopics/003/001741.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2010:/jp//1.1741</id>
   
   <published>2010-08-02T04:56:27Z</published>
   <updated>2010-08-02T04:57:37Z</updated>
   
   <summary>８月１８日（水）・１９日（木）に、霞が関の府省庁を中心に「子ども見学デー」が開催されます。</summary>
   <author>
      <name>投稿者</name>
      <uri>http://www.soei.com/</uri>
   </author>
         <category term="003_知的財産・法務関係" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   <category term="387" label="筆者：鈴木　英彦" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#tag" />
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<p>
&nbsp; ８月１８日（水）・１９日（木）に霞が関を中心とした府省庁において、小・中学生を対象とした「子ども見学デー」が開催されます。「子ども見学デー」は、子どもたちが親の職場を見学すること等を通じて、親子のふれあいを深め、広く社会を知る機会とすることを目的としているとのことです。<br />
特許庁も、「身近な発明に触れてみよう！」をテーマに、「くらしのなかの特許・意匠・商標」や「発明を楽しむサイエンスショー」といった様々なプログラムを用意しています。（一部のプログラムへの参加については、事前申し込みが必要です。）
</p>
<p>
　特許庁以外の多くの府省庁においても様々なプログラムが実施されるため、府省庁において行われている業務などを知ることのできるよい機会だと思います。興味のある方は、下記の文部科学省ＨＰ及び特許庁ＨＰにて詳細をご確認ください。
</p>
<p>
・文部科学省ＨＰ<br />
<a href="http://www.mext.go.jp/b_menu/houdou/22/06/1295037.htm">http://www.mext.go.jp/b_menu/houdou/22/06/1295037.htm</a>
</p>
<p>
・特許庁ＨＰ<br />
<a href="http://www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/torikumi/hiroba/summer_kids_kengaku.htm">http://www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/torikumi/hiroba/summer_kids_kengaku.htm</a>
</p>
<p>
&nbsp;
</p>
]]>
      
   </content>
</entry>
<entry>
   <title>２０１０年上半期特・実・意出願及び登録状況</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/ipinfo/chinfo/001740.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2010:/jp//1.1740</id>
   
   <published>2010-07-30T10:35:41Z</published>
   <updated>2010-07-30T11:01:08Z</updated>
   
   <summary> 　中国国家知識産権局が2010年上半期の特許・実用新案・意匠の出願状況及び登録...</summary>
   <author>
      <name>投稿者</name>
      <uri>http://www.soei.com/</uri>
   </author>
         <category term="---_What’sNew" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
         <category term="430_中国情報" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   <category term="113" label="筆者：小町　澄輝" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#tag" />
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<p>
　中国国家知識産権局が2010年上半期の特許・実用新案・意匠の出願状況及び登録状況について発表した。<br />
2010年1～6月では、特許・実用新案・意匠の出願件数が46.7万件で、前年同期に比べて9.6％増えた。そのうち、中国国内からの出願件数が41.1万件で、国外からの出願件数は5.6万件であった。（内訳は下表参照）
</p>
<p>
<img style="width: 132px; height: 90px" src="/jp/images/topics//10.JPG" alt="10.JPG" width="132" height="90" />
<br />
<br />
　また、2010年上半期の特許・実用新案・意匠の登録件数は35.9万件であって、特許登録件数が5.6万件、実用新案登録件数が13.9万件、意匠登録件数が16.4万件であった。<br />
　2010年上半期の状況を見ると、以下のような特徴が伺える。（１）中国国内からの出願件数が増えているが、前年同期に比べると増加率は低下している。（２）国外からの出願件数が増え、金融危機前のレベルに回復しつつある。（３）国内からの出願のうち職務発明・考案・意匠の割合が増えている。（４）登録件数も増加している。
</p>
<p>
＜中国国家知識産権局ホームページ＞2010/07/23
</p>
]]>
      
   </content>
</entry>
<entry>
   <title>外国特許の法制度　～流れや概要～ 【各国オフィスアクションの延長期間とその費用について】</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/runaround/knowledge/001738.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2010:/jp//1.1738</id>
   
   <published>2010-07-30T05:34:10Z</published>
   <updated>2010-07-30T05:38:54Z</updated>
   
   <summary> 今回は、各国オフィスアクションの延長期間と、その庁費用についてまとめました。　...</summary>
   <author>
      <name>投稿者</name>
      <uri>http://www.soei.com/</uri>
   </author>
         <category term="530_知的財産の薀蓄" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<p>
今回は、各国オフィスアクションの延長期間と、その庁費用についてまとめました。　<br />
<strong>【２０１０年７月現在】<br />
</strong><br />
<strong>《US》　<br />
</strong>オフィスアクション・・・庁発送日より3ヶ月、延長3ヶ月<br />
選択限定要求・・・・・・庁発送日より1ヶ月、延長5ヶ月
</p>
<p>
【庁費用】1ヶ月-＄130　2ヶ月-＄490　3ヶ月-＄1,110　 4ヶ月-$1,730　&nbsp; 5ヶ月-＄2,250<br />
＊ USは期限が過ぎると自動で期限が延長されますので代理人へ延長の指示を出す必要はありません。また、この費用はオフィスアクションに応答する際にかかる費用ですので応答せず放置とした場合にはかかりません。
</p>
<p>
&nbsp;
<img style="width: 746px; height: 143px" src="/jp/images/topics//100730.JPG" alt="100730.JPG" width="746" height="143" />
</p>
<p>
&nbsp;
</p>
<p>
&nbsp;<strong>《EP》<br />
</strong>オフィスアクション・・・庁発送日より4ヶ月、延長2ヶ月<br />
　<br />
【庁費用】なし。<br />
＊ 1回のみ2ヶ月の延長が可能で、1ヶ月ずつの延長は出来ません。ヨーロッパには猶予期間というのが10日間あり、庁発送日より単純に4ヶ月というわけではありません。まず、庁発送日より10日間プラスし、その日から4ヶ月がオフィスアクションの期限となります。庁発送日より4ヶ月に10日間プラスされるのではないので注意が必要となります。<br />
＊ 尚、ヨーロッパではFurther processing手続きがあります。これは応答が6ヶ月を過ぎると庁より放棄通知書が発行され、放棄通知書の発行日より2ヶ月以内にオフィスアクションに応答できるという手続きです。こちらの費用は200ユーロかかります。
</p>
<p>
<strong>《DE》<br />
</strong>オフィスアクション・・・受領日より4ヶ月、延長2ヶ月<br />
【庁費用】なし。<br />
＊ ドイツもヨーロッパと同じく10日間の猶予期間があります。
</p>
<p>
<strong>《CN》<br />
</strong>第1回拒絶理由通知・・・庁発送日より4ヶ月、延長2ヶ月<br />
第2回以降の拒絶理由通知・・庁発送日より2ヶ月、延長2ヶ月<br />
【庁費用】1ヶ月-300元　2ヶ月-600元<br />
＊ 中国の拒絶理由通知は1回目と2回目以降とで応答の期限が変わります。<br />
またどちらも1回のみ延長でき1ヶ月または2ヶ月の延長を選べます。1度1ヶ月の延長をし、また1ヶ月の延長を<br />
するということは出来ず、1回のみの申請となります。また、中国にもヨーロッパと同じように猶予期間が15日あ
</p>
<p>
り、中国の期限の計算方法も庁発送日より15日間プラスし、そこから4ヶ月、または2ヶ月となります。
</p>
<p>
<strong>《KR》<br />
</strong>拒絶理由通知・・・・・・送達日より2ヶ月、延長4ヶ月<br />
＊2008年7月1日以前発行のOAは無期限に延長が出来ましたが、法改正によりそれ以降発行のオフィスアクションは4ヶ月までの延長と制限されています。また、4ヶ月の延長は1ヶ月ずつ4回申請ができます。<br />
拒絶査定・・・・・・・・送達日より30日、延長2ヶ月。<br />
＊ 拒絶査定は、拒絶理由通知と違い1回のみ2ヶ月の延長となります。1ヶ月ずつ延長申請をするわけではないので拒絶理由通知と同じではありません。
</p>
<p>
【庁費用】<br />
1ヶ月-2万ウォン(USD20） 　2ヶ月-3万ウォン(USD30)　　3ヶ月-6万ウォン(USD60)　　4ヶ月-12万ウォン(USD120)　
</p>
<p>
<strong>《TW》<br />
</strong>　審査意見通知書・・・・庁発送日より3ヶ月、延長3ヶ月　<br />
＊ 1回のみ3ヶ月の延長（ただし審査官の裁量による。）<br />
拒絶査定・・・・・・・・審判請求の期限は庁発送日より2ヶ月。再審査理由書は再審査請求日より４ヶ月以内に補充可、延長は2ヶ月
</p>
<p>
【庁費用】なし。
</p>
<p>
特殊な国としてオーストラリアやインドでは最初のオフィスアクション発行日に定められた期限以内に許可の状態にしなければなりません。よって、何度オフィスアクションが発行されても最大庁期限は変わらない国もあります。
</p>
<p>
尚、現地代理人手数料は代理人により異なりますが、各国およそ10,000円~30,000円程になります。
</p>
]]>
      <![CDATA[<p>
&nbsp;
</p>
<p>
&nbsp;
</p>
]]>
   </content>
</entry>
<entry>
   <title>はじめて学ぶ著作権</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/ipinfo/iptopics/003/001737.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2010:/jp//1.1737</id>
   
   <published>2010-07-30T05:20:24Z</published>
   <updated>2010-07-30T05:24:39Z</updated>
   
   <summary>文化庁ＨＰにおいて、著作権がどういうものか理解できることを目的として、
「はじめて学ぶ著作権」のコンテンツが公開されております。</summary>
   <author>
      <name>投稿者</name>
      <uri>http://www.soei.com/</uri>
   </author>
         <category term="---_What’sNew" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
         <category term="003_知的財産・法務関係" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   <category term="384" label="筆者：荒井　寿王" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#tag" />
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<p>
&nbsp; 文化庁ＨＰにおいて、著作権がどういうものか理解できることを目標にして、<br />
「はじめて学ぶ著作権」のコンテンツが公開されております。<br />
　<a href="http://www.bunka.go.jp/chosakuken/hakase/hajimete_1/index.html">http://www.bunka.go.jp/chosakuken/hakase/hajimete_1/index.html</a>
</p>
<p>
　絵やスライドを用いて、とてもわかり易く作られており、機会があれば、ぜひ活用してみては如何でしょうか？<br />
　なお、この絵は、著作権を尊重する意識や態度を身に付けられるようにとのメッセージを込め、やなせたかし先生が描かれております。
</p>
<p>
　より詳しく学びたい場合には、著作権に関する教材として、以下の「著作権テキスト」も公開されており、こちらも有用に活用できるかと思います。<br />
　<a href="http://www.bunka.go.jp/chosakuken/text/index.html">http://www.bunka.go.jp/chosakuken/text/index.html</a>
</p>
]]>
      
   </content>
</entry>
<entry>
   <title>「移転のお知らせとご挨拶」を掲載しました。</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/whatsnew/001735.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2010:/jp//1.1735</id>
   
   <published>2010-07-29T06:06:00Z</published>
   <updated>2010-07-29T06:06:16Z</updated>
   
   <summary> 	移転のお知らせ 	所長のご挨拶 を、掲載致しました。 ...</summary>
   <author>
      <name>システム</name>
      
   </author>
         <category term="---_What’sNew" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<ul>
	<li><a href="/jp/ourfirm/new_office/index.php">移転のお知らせ</a></li>
	<li><a href="/jp/ourfirm/new_office/msg.php">所長のご挨拶</a></li>
</ul>
<p>
を、掲載致しました。
</p>
]]>
      
   </content>
</entry>
<entry>
   <title>データで見る産業財産権の動向</title>
   <link rel="alternate" type="text/html" href="http://www.soei.com/jp/ipinfo/iptopics/003/001734.php" />
   <id>tag:www.soei.com,2010:/jp//1.1734</id>
   
   <published>2010-07-22T09:01:46Z</published>
   <updated>2010-07-23T04:54:33Z</updated>
   
   <summary>特許行政年次報告書２０１０年版が先日特許庁により公表されました。</summary>
   <author>
      <name>投稿者</name>
      <uri>http://www.soei.com/</uri>
   </author>
         <category term="---_What’sNew" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
         <category term="003_知的財産・法務関係" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#category" />
   
   <category term="426" label="筆者：古下　智也" scheme="http://www.sixapart.com/ns/types#tag" />
   
   <content type="html" xml:lang="ja" xml:base="http://www.soei.com/jp/">
      <![CDATA[<p>
&nbsp;特許行政年次報告書は、産業財産権をめぐる政策の現状と方向性、国内外の動向と分析及び統計情報等を毎年取りまとめているものです。今回の２０１０年版では、「産業財産権の現状と課題」と銘打って、ここ数年の日本特許庁及び海外特許庁における産業財産権の動向が多種多様なデータにより検証されています。
</p>
<p>
　特許行政年次報告書２０１０年版では、例えば、２００９年度の日本特許庁における特許出願の出願・審査に関して以下の事柄が報告されています。
</p>
<ul>
	<li>国内特許出願の出願件数は減少したものの、ＰＣＴ出願の出願件数は増加していること。</li>
	<li>審査請求期間の改正（２００１年に７年から３年に改正）に伴い増加していた審査順番待ち件数が減少傾向にあること。</li>
	<li>一次審査件数が審査請求件数を上回ったこと。</li>
</ul>
<p>
　特許行政年次報告書２０１０年版では、特許に限らず意匠や商標の動向についても多種多様なデータにより検証されています。
</p>
<p>
　また、特許行政年次報告書２０１０年版は非常にボリュームのある報告書となっていますが、要旨がコンパクトにまとめられた別紙「産業財産権の現状と課題のポイント」が特許行政年次報告書２０１０年版と共に公表されています。
</p>
<p>
　なお、特許行政年次報告書２０１０年版の詳細につきましては、下記ホームページを参照下さい。<br />
　特許庁ホームページ：<a href="http://www.meti.go.jp/press/20100715002/20100715002.html">http://www.meti.go.jp/press/20100715002/20100715002.html</a>
</p>
<p>
以上
</p>
]]>
      
   </content>
</entry>

</feed>
