日本の知財・法務情報：創英国際特許法律事務所

シンガポールで、商標法及び商標規則が改正され、７月２日に施行されました。 主な改正点が下記の通りです。

1. 多区分出願
   従来は単区分制度が採用されておりましたが、本改正で多区分出願が可能となりました。
2. 分割出願
   区分ごと、又は、指定商品/役務ごとに、出願分割が可能となりました。出願分割をした場合であっても、原出願日が維持されます。
   ただし、マドリッドプロトコールに基づく出願については出願分割はできません。
3. 審査中の商標出願についてもライセンス登録が可能に
   これまでは、登録後の商標についてのみライセンス登録が認められておりましたが、今回の改正で、登録前の出願中商標についてもライセンス登録が認められることになりました。
4. 期限途過した商標出願/登録の復活
   審査官が設定した各種期限を途過した場合であっても、その出願（登録）が一定の要件下で復活します。
   （１）復活請求が期限後６ヶ月以内に提出されること
   （２）復活請求とともに、求められていた手続を遂行すること
   （３）期限途過が意図的なものではないこと
   ただし、優先権主張、第三者の商標権に対する異議申立等の一定の手続については上記規定の例外となります。