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      <title>일본 동경 소우에이국제특허법률사무소</title>
      <link>http://www.soei.com/korea/</link>
      <description>Good idea,Good design,Good will.
　We defend them and expand your dream.</description>
      <language>ko</language>
      <copyright>Copyright 2008</copyright>
      <lastBuildDate>Mon, 04 Aug 2008 17:34:54 +0900</lastBuildDate>
      <generator>http://www.sixapart.com/movabletype/?v=3.35</generator>
      <docs>http://blogs.law.harvard.edu/tech/rss</docs> 
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            <item>
         <title>세르비아, 몬테네그로 지적재산국 개설</title>
         <description><![CDATA[<p>
몬테네그로 및 코소보에 지적재산국이 개설되었습니다.
</p>
<p>
2006년 6월 3일 세르비아와 몬테네그로가 각각 독립 국가가 되면서 2008년 2월 17일 코소보자치주 의회는 세르비아로부터 독립선언을 채택하고 2007년 11월에는 코소보에 2008년 5월에는 세르비아에 지적재산국을 개설했습니다.
</p>
<p>
[몬테네그로 관련 대응]<br />
지적재산국 개설전에 (구) 세르비아 몬테네그로에서 취득한 상표권은 자동적으로 몬테네그로에서도 보호됩니다만, 2008년 11월 28일 까지 세르비아에서 계속되어있던 출원은 2008년 11월 28일에 몬테네그로 지적재산국에 재출원할 필요가 있습니다.
</p>
<p>
[코소보 관련 대응]<br />
한편, 코소보에서는 세르비아 몬테네그로에서 취득한 상표권 및 출원에 대해 2008년 9월 1일까지 재등록 및 재출원 할 필요가 있으므로 주의하시기 바랍니다.
</p>
]]></description>
         <link>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080804173454.php</link>
         <guid>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080804173454.php</guid>
         <category>지적재산•법무관계 뉴스</category>
         <pubDate>Mon, 04 Aug 2008 17:34:54 +0900</pubDate>
      </item>
            <item>
         <title>소리와 냄새를 상표등록대상에 추가</title>
         <description><![CDATA[<p>
일본특허청은 상표등록의 대상을 비시각적인 부분까지 확장하는 개정법안에 대해 검토중인 것으로 알려졌습니다.
</p>
<p>
현행 상표법에서는 상표등록의 대상인 표장에 대해 &lsquo;문자, 도형, 기호 혹은 입체적인 형상 또는 이들의 결합, 혹은 이들과 색채와의 결합&rsquo; 이라고 정의하고 있으며 (상표법 제2조 제1항), 시각적으로 취급할 수 있는 것 만을 그 대상으로 삼고 있습니다.
</p>
<p>
한편, 최근 인터넷 및 기타 광고 수단의 발전과 더불어 각사가 자사 제품, 자사 서비스를 타사와 구별하기 위한 수단을 다양화하고 있습니다. 이러한 시대흐름에 발맞추어 일본특허청에서는 종래의 시각적인 표장과 더불어 냄새와 소리 등 비시각적인 표장 또한 상표등록의 대상으로 포함시키는 방침을 발표하고 올7월에 연구회를 발족시켰으며, 2010년 법 개정을 지향하고 있습니다.
</p>
<p>
비시각적인 상표와 관련하여 구미에서는 이미 등록을 인정하고 있는 나라가 있습니다만, 일본을 포함하여 한국, 중국 등의 아시아 국가는 등록을 인정하지 않는 국가들이 대부분입니다. 일본의 법 개정 움직임은 가까운 미래 아시아 국가들의 상표법 개정에 영향을 미칠 가능성이 적지 않으므로, 기업의 광고 및 판매 전략도 이에 대한 대비를 하는것이 좋을 듯 합니다.
</p>
]]></description>
         <link>http://www.soei.com/korea//20080804171928.php</link>
         <guid>http://www.soei.com/korea//20080804171928.php</guid>
         <category></category>
         <pubDate>Mon, 04 Aug 2008 17:19:28 +0900</pubDate>
      </item>
            <item>
         <title>소리와 냄새를 상표등록대상에 추가</title>
         <description><![CDATA[<p>
일본특허청은 상표등록의 대상을 비시각적인 부분까지 확장하는 개정법안에 대해 검토중인 것으로 알려졌습니다.
</p>
<p>
현행 상표법에서는 상표등록의 대상인 표장에 대해 &lsquo;문자, 도형, 기호 혹은 입체적인 형상 또는 이들의 결합, 혹은 이들과 색채와의 결합&rsquo; 이라고 정의하고 있으며 (상표법 제2조 제1항), 시각적으로 취급할 수 있는 것 만을 그 대상으로 삼고 있습니다.
</p>
<p>
한편, 최근 인터넷 및 기타 광고 수단의 발전과 더불어 각사가 자사 제품, 자사 서비스를 타사와 구별하기 위한 수단을 다양화하고 있습니다. 이러한 시대흐름에 발맞추어 일본특허청에서는 종래의 시각적인 표장과 더불어 냄새와 소리 등 비시각적인 표장 또한 상표등록의 대상으로 포함시키는 방침을 발표하고 올7월에 연구회를 발족시켰으며, 2010년 법 개정을 지향하고 있습니다.
</p>
<p>
비시각적인 상표와 관련하여 구미에서는 이미 등록을 인정하고 있는 나라가 있습니다만, 일본을 포함하여 한국, 중국 등의 아시아 국가는 등록을 인정하지 않는 국가들이 대부분입니다. 일본의 법 개정 움직임은 가까운 미래 아시아 국가들의 상표법 개정에 영향을 미칠 가능성이 적지 않으므로, 기업의 광고 및 판매 전략도 이에 대한 대비를 하는것이 좋을 듯 합니다.
</p>
]]></description>
         <link>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080715171939.php</link>
         <guid>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080715171939.php</guid>
         <category>지적재산•법무관계 뉴스</category>
         <pubDate>Tue, 15 Jul 2008 17:19:39 +0900</pubDate>
      </item>
            <item>
         <title>중국 특허청 ‘지진 재해 시의 특허 출원 취급에 관한 통지’를 발표</title>
         <description><![CDATA[<p>
중국 특허청은 5월 13일 &lsquo;지진 재해 시의 특허출원 취급에 관한 통지&rsquo;를 발표했다. 본 통지는 재해지역의 특허출원에 관한 접수 업무의 확보와 재해지역의 출원인 및 특허권자의 이익 유지를 위해, 지진 등 불가항력에 따른 특허출원 지연문제 등을 구체적으로 규정한 것이다.
</p>
<p>
본 통지에 따르면, 중국 특허청의 접수창구 및 각 지방의 접수취급소는 통상대로 출원을 수리하고 업무를 실시하도록 하고 있으며, 통상 업무를 실시할 수 없는 취급소의 경우에는 인근 지역에 접수함을 설치해 특허 출원을 수리하도록 하고 있다.
</p>
<p>
재해로 인해, 당사자가 수속을 하지 못하여 기한이 초과되고 권리를 상실한 경우에는, 당사자는 그 이유가 소멸한 날로 부터 2개월 이내에 소재지의 접수창구 또는 관할 관청이 발행한 증명서를 제출함으로써 권리 회복에 관한 수속을 할 수 있도록 규정하고 있다.
</p>
<p>
＜중국 특허청 (국가지식산권국) 홈 페이지 인용＞
</p>
]]></description>
         <link>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080522172137.php</link>
         <guid>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080522172137.php</guid>
         <category>지적재산•법무관계 뉴스</category>
         <pubDate>Thu, 22 May 2008 17:21:37 +0900</pubDate>
      </item>
            <item>
         <title>미국 특허법 - 계속출원•클레임 등의 제한에 관한 시행 규칙 개정은 무효</title>
         <description><![CDATA[<p>
지난 4월 1일, 미국 버지니아주 동부 관할의 지방재판소가 &lsquo;계속출원&bull;클레임 등의 제한에 관한 시행 규칙 개정은 무효&rsquo;라는 판결을 내렸다. 이에 지난 5월 7일, 미국 특허상표청(USPTO)은 상기 판결에 대해 불복을 주장하며 향후 CAFC에 공소할 것이라는 방침을 굳힌 것으로 전해졌다.
</p>
<p>
지난 판결에서는 개정 규칙의 내용이 USPTO의 권한을 초과한다는 판단이 중요한 포인트가 되었다. 한편, 의회에서 현재 심의 중인 특허법 개정안(특허개혁법안)에는 규칙 제정에 관하여 USPTO의 권한을 강화한다는 내용이 포함되어 있다. 이에 따라 특허개혁법안의 향후 행방에 따라 USPTO가 이번 공소에 대한 방침을 변경할 수 있다는 억측이 제기되고 있다.
</p>
<p>
또한, 공소심이 시작되었다하더라도 판결이 나오는데 1년 정도의 시간이 소요될 것으로 예상되므로 그 사이에 USPTO의 상층부가 변경될 가능성도 지적되고 있다. 이로 인해 새로운 상층부에 따른 공소 취하가 이루어질 수 있다는 의견까지 나오고 있다.
</p>
<p>
따라서 당분간은 미국의 특허개혁법안 그리고 미국 특허제도의 행방을 주목하지 않을 수 없겠다.
</p>
<p>
&nbsp;
</p>
<p>
［참고 정보］
</p>
<p>
▪ 미국 특허상표청(USPTO) 홈 페이지<br />
<a href="http://www.uspto.gov/">http://www.uspto.gov/</a><br />
※5월 14일 현재, 이번 공소의 방침에 관한 발표 등은 게재되어 있지 않습니다.
</p>
<p>
▪ Patent Law Blog (Patently-O)：이번 USPTO의 방침에 관한 기사가 게재되어 있는 블로그<br />
<a href="http://www.patentlyo.com/patent/2008/05/tafas-v-dudas-p.html">http://www.patentlyo.com/patent/2008/05/tafas-v-dudas-p.html</a>
</p>
<p>
이상
</p>
]]></description>
         <link>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080519171929.php</link>
         <guid>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080519171929.php</guid>
         <category>지적재산•법무관계 뉴스</category>
         <pubDate>Mon, 19 May 2008 17:19:29 +0900</pubDate>
      </item>
            <item>
         <title>특허출원에서 권리화까지의 기간에 대해</title>
         <description><![CDATA[<p>
특허출원은 출원후 심사청구까지의 기간, 심사 대기 기간 및 거절 이유 통지 후의 대응 기간에 따라 권리화 될 때까지 상당 기간이 소요된다.
</p>
<p>
일본에서 특허출원후 권리화까지 대체적인 소요시간을 파악하기 위해 올 4월에 특허공보가 발행된 안건의 출원연도를 조사해보았다. 아래 표는 등록건수에 대한 출원연도별 특허출원건수의 비율을 나타낸 것이다.
</p>
<table width="20">
	<tbody>
		<tr>
			<td>
			<p align="center">
			출원연도&nbsp;
			</p>
			</td>
			<td>
			<p align="center">
			비율&nbsp;
			</p>
			</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;1998년 이전&nbsp;
			</p>
			</td>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;17%
			</p>
			</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;1999년
			</p>
			</td>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;7%
			</p>
			</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;2000년
			</p>
			</td>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;5%
			</p>
			</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;2001년
			</p>
			</td>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;9%
			</p>
			</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;2002년
			</p>
			</td>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;26%
			</p>
			</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;2003년
			</p>
			</td>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;18%
			</p>
			</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;2004년
			</p>
			</td>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;9%
			</p>
			</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;2005년
			</p>
			</td>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;4%
			</p>
			</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;2006년
			</p>
			</td>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;2%
			</p>
			</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;2007년
			</p>
			</td>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;2%
			</p>
			</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;2008년
			</p>
			</td>
			<td>
			<p align="center">
			&nbsp;0%
			</p>
			</td>
		</tr>
	</tbody>
</table>
<p>
상기의 결과를 보면, 특허출원의 권리화는 출원에서부터 6년 정도가 소요되고 있음을 알 수 있다. 특허권의 존속기간은 일반적으로 출원일부터 20년이므로, 이 &lsquo;20년&rsquo;의 1/3~1/4에 해당되는 기간이 권리취득을 위해 쓰여지고 있는 것이다.
</p>
<p>
권리 취득까지의 기간을 단축하는 방법으로는, 예를 들어 출원과 동시에 심사청구를 하거나, 조기심사제도를 활용할 수 있다. 단, 조기심사제도를 이용하기 위해서는, 중소기업이나 개인이 출원한 것, 외국관련출원인 것, 혹은 실시관련출원인 것 등으로 일정한 요건을 충족해야만 한다. (자세한 내용은 아래의 참고 사이트(1)을 참고.)
</p>
<p>
한편 일본 특허청에서도 심사 대기 시간을 단축시키기 위해 각종 대책을 실시하고 있다. 예를 들어 심사의 부담을 줄이기 위해 특허심사 하이웨이 등 타국 특허청의 심사 결과를 이용하는 방법이 도입되었다. 또한 올해 4월 부터는 파리우선권주장의 기초가 되는 특허출원 중 출원일로 부터 2년 이내에 심사청구된 것을 다른 출원보다 우선시하여 심사에 착수하는 시책이 이루어지고 있다. (자세한 내용은 아래의 참고 사이트(2)를 참고.)
</p>
<p>
참고 사이트(1)　<a href="http://www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi">http://www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi</a>?<br />
url=/torikumi/t_torikumi/souki/v3souki.htm<br />
참고 사이트(2)　<a href="http://www.jpo.go.jp/torikumi/t_torikumi/jp_first.htm">http://www.jpo.go.jp/torikumi/t_torikumi/jp_first.htm</a>
</p>
]]></description>
         <link>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080512171030.php</link>
         <guid>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080512171030.php</guid>
         <category>지적재산•법무관계 뉴스</category>
         <pubDate>Mon, 12 May 2008 17:10:30 +0900</pubDate>
      </item>
            <item>
         <title>상표제도를 둘러싼 개정 논의</title>
         <description><![CDATA[<p>
<br />
아시는 바와 같이, 지적재산분야에서는 법률, 제도개정이 빈번하게 이루어지고 있습니다. 올해에도 벌써부터 특허관계요금에 대한 개정 논의 등이 있었습니다. 이번에 업데이트된 내용은 작년 12월18일에 개최된 제18회 상표제도소위원회의 회의록으로,&nbsp; 시차가 조금 있기는 합니다만, 상표제도와 관련된 개정 동향을 엿볼 수 있습니다.
</p>
<p>
그 개요를 소개해 드리면,<br />
(1) 통상사용권등의 등록 제도의 재검토 (① 등록 기재사항에서「대가」를 제외한다.&nbsp; ② 등록 신청 접수일로 부터 등록의 효력을 발생시킨다)<br />
(2) 거절 사정 불복심판의 청구 기간의 연장 (「30일」을 「3개월」로 연장한다)<br />
(3) 상표관계 요금의 재검토 (출원료, 설정등록료, 갱신등록료에 대해 평균 43% 인하)<br />
(4) 수수료납부를 위한 계좌대체제도의 도입<br />
등이 개정 사항으로 거론되었습니다. 회의록에는 그 취지와 배경에 대해서도 구체적으로 언급되어 있으므로 참고하시기 바랍니다.&nbsp;
</p>
<p>
그 외, 구미국가에서 보호 대상이 되고 있는 소리, 향기, 홀로그램, 움직임 등에 대해서도 보호대상으로 추가하자는 안이 논의되었다고 합니다. 흥미가 있으신 분은 아래 특허청 홈 페이지를 참고하시기 바랍니다.
</p>
<p>
<a href="http://www/">http://www</a>. jpo. go. jp/cgi/link. cgi?<br />
url=/shiryou/toushin/shingikai/t_mark_seido_menu. htm
</p>
]]></description>
         <link>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080220140121.php</link>
         <guid>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080220140121.php</guid>
         <category>지적재산•법무관계 뉴스</category>
         <pubDate>Wed, 20 Feb 2008 14:01:21 +0900</pubDate>
      </item>
            <item>
         <title>특허심사 하이웨이</title>
         <description><![CDATA[<p>
<br />
특허심사 하이웨이란, 제1국의 특허청에서 특허가 가능하다고 판단되는 출원에 대해 제2국 특허청의 간이 절차를 통해 조기심사를 받을 수 있도록 하는 것으로, 미일간에 2006년7월부터 시범적으로 시작된 것입니다.&nbsp;
</p>
<p>
일본 특허청이&nbsp; 홈페이지에 공표한 사실에 따르면, 2006년7월에 시범시행이 시작된 이래 2007년12월 까지 일본에서 미국으로 227건, 미국에서 일본으로 159건 이용되었다고 합니다. 또한, 심사 하이웨이를 이용한 결과, 일본의 심사기간이 1년반 이상 단축되었고 미국의 경우에는 분야에 따라 약1년 정도의 심사기간 단축 효과가 확인되었다고 합니다.&nbsp;
</p>
<p>
이번 시행으로 우선권주장을 수반하지 않는 PCT출원의 일본국내 이행출원의 경우도 미일특허심사 하이웨이를 이용할 수 있게 되었습니다.&nbsp;
</p>
<p>
자세한 내용은 일본 특허청 홈 페이지를 참고하시기 바랍니다.<br />
<br />
ht<a href="http://www/">tp://www</a>. jpo. go. jp/cgi/link. cgi? url=/torikumi/t_torikumi/patent_highway. htm
</p>
]]></description>
         <link>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080131135831.php</link>
         <guid>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20080131135831.php</guid>
         <category>지적재산•법무관계 뉴스</category>
         <pubDate>Thu, 31 Jan 2008 13:58:31 +0900</pubDate>
      </item>
            <item>
         <title>심판편람의 개정</title>
         <description><![CDATA[<p>
2007 년 10 월 5 일부터 11월 5일까지&nbsp; 심판편람의 개정 (제 11판 ) 에 관한 의견 수렴 과정을 거쳐 , 2007년 12월 5 일 심판편람 (개정 제 11 판 )에 관한 최종판이 특허청 홈페이지에 게재되었습니다 .
</p>
<p>
지난 회 개정된 심판편람은 2005 년에 개정된 것이었습니다 . 따라서 이번에 새로 개정된 심판편람에는 2006 년 법 개정( 기술적 특징이 다른 별도의 발명에 대한 보정의 금지, 분할제도의 남용 금지, 분할의 시기적 제한 등) 과 그동안 이루어진 운용사항의 변경( 거절 이유 통지에 대한 응답 기간의 변경 등 ) 등이 새롭게 반영되어 있습니다.<br />
자세한 사항은 일본 특허청 홈페이지를 참고하시기 바랍니다 .
</p>
<p>
&#39; 심판편람의 개정 ( 제 11 판) 에 대해&#39; 에 대한 의견 수렴 결과<br />
<a href="http://www.jpo.go.jp/iken/kekka_kaitei_11.htm">http://www.jpo.go.jp/iken/kekka_kaitei_11.htm</a><br />
이상
</p>
<p>
&nbsp;
</p>
]]></description>
         <link>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20071211152156.php</link>
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         <category>지적재산•법무관계 뉴스</category>
         <pubDate>Tue, 11 Dec 2007 15:21:56 +0900</pubDate>
      </item>
            <item>
         <title>「나노기술・재료」분야의 지적재산전략에 대해</title>
         <description><![CDATA[<p>
「나노기술・재료」분야의 보고서에는 기초연구 개발의 성과가 제품화로 이어질 때까지 긴 시간을 요하는 만큼 기본특허를 확보하는 것이 중요한 일이기는 하나, 실용화 단계에서 해당 기본특허의 존속기간이 만료될 가능성이 있기 때문에 실용화가 가시화 되는 타이밍을 충분히 고려하여 응용・용도기술, 제조기술에 관한 권리를 취득하는 전략이 중요하다고 언급하고 있습니다.
</p>
<p>
&nbsp;예를 들어 「나노기술・재료」분야의 기본특허로 &lsquo;신규물질&rsquo;의 발명에 관련된 특허를 들수 있습니다. 이러한 기본특허를 바탕으로 넓은 범위의 권리를 충분히 취득할 수 있습니만, 일반적으로 넓은 기술적 범위를 포함하는 발명에는 공지기술, 선행기술이 발견될 확률이 높고 거절 또는 무효가 될 가능성이 높은 것이 사실입니다.
</p>
<p>
따라서 해당 특허 출원 이후, 실용화를 위한 개발단계에서 완성한 응용품과 제조과정, 용도발명을 출원하는 것이 유효합니다. 그렇게 함으로써, 기간기술과 관련된 견고한 특허군을 구축할 수 있으며 기본특허를 취득할 수 없는 경우와 기본특허의 존속기간 이 만료된 후에도 경쟁 타사의 실시를 배제할수 있는 가능성이 높아집니다.
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아래 사이트에서는 분야별로 정리한 보고서 내용 등에 기초하여 「패턴트프론티아의 개척을 위해 (안)」가 공표되어 있습니다. 관심있으신 분은 참고하시기 바랍니다.<br />
http://www.kantei.go.jp/jp/singi/titeki2/tyousakai/kyousou/dai3/3gijisidai.html 이상.
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         <link>http://www.soei.com/korea/iptopics/03/20071210154213.php</link>
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         <category>지적재산•법무관계 뉴스</category>
         <pubDate>Mon, 10 Dec 2007 15:42:13 +0900</pubDate>
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