2012.11.20 知財トピックス 東アジア情報 [特許/中国]日中特許審査ハイウェイの延長と申請手続簡素化 日本国特許庁は、2011年11月1日より1 年間の期限で行われていた中国特許庁との特許審査ハイウェイを1 年間延長し、2013年10月31日まで試行すると発表した。 なお、試行期間は必要に応じて再度延長される予定である。 試行期間延長に伴い、申請手続の簡素化も図られ、申請に必要な書類の提出が一部不要となった。 CN, 山口和弘
2019.04.22 知財トピックス 日本情報 [意匠/日本]意匠法の一部改正の法案について ~画像デザインの保護拡充、空間デザインの保護拡充、関連意匠制度の拡充、複数意匠一括出願等の改正へ~(※施行日に関する追記あり)