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五大特許庁長官会合にて特許制度調和に向けた優先的検討事項を合意

 2014年6月4~6日に、日本国特許庁、米国特許商標庁、欧州特許庁、中国国家知識産権局、韓国特許庁による第7回の五大特許庁長官会合が、韓国の釜山で開催された。

今回の主な議題としては、「特許制度調和」、「審査の適時性に関するポリシー」、「特許審査情報の相互利用及び提供」が取り上げられた。その中で、「特許制度調和」については、「記載要件」、「出願人による先行技術の開示義務」、「発明の単一性」の3項目を優先的に議論することが合意された。また、五庁ユーザーとの会合も開催され、特許制度運用調和等について、積極的な意見交換が行われた。次回は、2015年に中国で開催される予定である。

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