2011.05.20 知財トピックス 米国情報 [特許]特許法改正案が下院司法委員会を圧倒的多数で通過 米国特許法改正案が上院本会議で3 月8日に可決されたのに続き、下院でも議論が始まっていたが、4 月14 日、司法委員会において逐条審査(マークアップ)が行われ、32 対3 の圧倒的多数で本会議への提出が可決された。 今後は、上院で可決された改正案(S.23)とのすり合わせが法案成立のカギとなるが、特許法改正が以前より増して現実味を帯びてきた。 US, 黒木義樹
2017.08.07 知財トピックス 日本情報 特許庁、「手続上の瑕疵のある出願の後願となる商標登録出願の審査について(お知らせ)」を公表 ~一部出願人の大量出願への対応として、拒絶理由通知の記載に関する運用を変更~