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2026.07.21知財トピックス日本情報
[特許／日本]審査基準改訂の概要（2026年7月改訂）
特許・実用新案審査基準が改訂されました。改訂後の審査基準は、令和8年7月1日以降に行われる審査に対して利用されます。今回の基準改訂の概要についてお知らせいたします。 【本記事のご利用にあたっての留意事項】 本記事は、20 […]
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2026.07.13知財トピックス米国情報
[特許／米国] USPTO、存続期間が残存しないと見込まれる出願に対する理由開示命令の発行を開始
USPTOは2026年6月4日付で、 特許が発行されたとしても存続期間が残存せず、かつ特許期間調整（PTA）が加算される可能性もないと見込まれる出願に対して、審査手続きを継続すべき理由の説明を求める理由開示命令（Show […]
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2026.07.13知財トピックス米国情報
[特許／米国] 審査開始の事前通知プログラム Applicant Pre-Docketing Notice Pilot Program
USPTOは、2026年5月29日付で、特許出願が実体審査のために審査官に割り当てられる時期を事前に通知する試行プログラム「Applicant Pre-Docketing Notice pilot program」を公 […]
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2026.06.26知財トピックス米国情報
[特許／米国] 非故意の遅延に基づく請願要件の厳格化
１．概要 2026年6月24日に掲載された連邦官報1によれば、米国特許商標庁（USPTO）は、特許権の確実性と予測可能性を高め、適時な請願の提出を促すため、「非故意の遅延（unintentional delays）」に基 […]
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2026.06.25知財トピックス米国情報
[特許／米国] Streamlined Claim Set Pilot Program
米国特許商標庁（USPTO）は、2025年10月より「Streamlined Claim Set Pilot Program（簡素化クレームセット・パイロットプログラム）」を実施しています¹。本プログラムの適用が認められ […]
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2026.06.22知財トピックス東アジア情報
[意匠／中国] 「GUI関連意匠出願ガイドライン」の概要
１．はじめに 中国国家知識産権局（CNIPA）は2025年12月、「GUI関連意匠出願ガイドライン」を公表しました。本ガイドラインは、2023年の専利審査指南改訂に伴うGUI意匠の保護要件を明確化し、出願実務の質を向上さ […]
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2026.06.20知財判決ダイジェスト
特許 令和７年（行ケ）第１００４３号「光拡散層形成用塗料、プロジェクションスクリーン用フィルム、及びプロジェクションスクリーン」（知的財産高等裁判所 令和８年３月２６日）
【事件概要】 いわゆる選択発明として特許性が認められる余地がある本願発明について、顕著な効果を奏するかについての検討を行っていないとして、拒絶査定不服審判の審決が取り消された事例。 ▶判決要旨及び判決全文へのリンク 【 […]
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2026.06.20知財判決ダイジェスト
特許 令和７年（行ケ）第１００６５号「経口又は非経口抗糖尿病薬による治療にもかかわらず不十分な血糖調節の患者の糖尿病の治療」（知的財産高等裁判所 令和８年４月２２日）
【事件概要】 本件特許は、２型糖尿病を治療及び／又は予防するための、ＤＰＰ－４阻害剤を含む医薬組成物に関するもので、本事件は、無効審判請求不成立審決に対して、裁判所が、原告の実施可能要件・サポート要件違反の主張を退け（ […]
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2026.06.17知財トピックス東アジア情報
[特許・実用新案／韓国]審査猶予制度に関する改正
2026年5月11日、韓国知識財産処（Ministry of Intellectual Property of the Republic of Korea：MOIP）は、審査猶予制度の時期的要件の一部改善を主たる目的とす […]
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2026.06.17知財トピックス東アジア情報
[特許／ASEAN]ASPEC+の開始
2026年4月6日、ASPEC（ASEAN Patent Examination Co-operation）下において、新しいオプション「ASPEC+」の開始が公表された。2009年に開始したASPECは、ASEAN加 […]
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